東北大学発の新材料(結晶)を用いた新しいセンシング技術

膜の質量による周波数変化を捉えることで反応プロセスをモニタリングできます。
ALD:原子層堆積
CVD:気相成長法
に有用な手法です。

最先端半導体プロセスの成膜に用いられる原子層堆積プロセス温度は高温化の傾向にあります。
高温化により、膜の結晶欠陥減少・新しい高機能膜が期待されますが、従来の測定法だと水晶が高温環境下では不安定なので、信頼できるデータの測定が不可能でした。
そこで、弊社では高温環境下でも安定した新材料を用いた成膜プロセスセンサを開発しました。
※2019年度NEDO先導研究プログラム採択
